특허청, 최근 10년간 마스크 디자인 등록출원 11배 이상 증가
심사처리 10일 내외로 단축 통해 마스크 디자인의 권리화 부응
특허청(청장 박원주)에 따르면 최근 10년(‘10~’19)동안 마스크 디자인의 평균 출원 증가율이 43.2%로 매우 높게 나타났다고 밝혔다.
기간별 출원량 분석에서 신종플루(H1N1)가 유행했던 ’09년부터 미세먼지 예보시작 이전인 ’13년까지는 미세하게 증감을 보였지만, 이후 미세먼지의 유해성 인식 확대와 ’15년 메르스(중동호흡기증후군) 발생 등으로 마스크 출원이 꾸준히 증가한 것으로 파악됐다.
특히, 작년 한 해 동안에는 총 815건이 출원되어 ’18년 출원(261건) 대비 무려 212.3% 이라는 높은 출원증가율을 보였다.
이는 코로나19와 같은 호흡기 질환과 미세먼지의 유해성에 대한 인식 확대 및 마스크 수출 등 관련 산업의 성장흐름으로 풀이됐다.
원인 유형별로 출원건수를 살펴보면, 개인출원이 1,327건(63.8%) 로 가장 많았으며, 중소·중견기업이 602건(29.0%), 외국인(법인포함)이 96건(4.6%) 순으로 나타났다.
심사 유형별로 10년간의 출원건수를 살펴보면, 일부심사등록출원 대상건이 78.4%(1,630건), 심사등록출원 대상건이 21.6%(449건)로, 마스크 출원 디자인의 대부분이 일부심사등록출원으로 처리되는 것으로 나타났다.
‘일부심사등록출원’은 디자인의 순환주기가 짧고 모방이 쉬운 물품(의류, 섬유류 등)에 대한 디자인출원으로 방식 심사와 등록요건의 일부만 심사해 조기에 권리를 부여하고 있다.
특허청은 ’19년 12월부터 일부심사등록출원 대상물품의 빠른 심사를 위해 심사처리기간을 기존 60일에서 10일 내외로 대폭 단축, 마스크 디자인 출원건의 신속한 권리화에도 도움이 주고 있다.
<김진일 기자>
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